某半导体器件基带芯片解决厂在晶圆解决工作中，食用硅烷完成硅本质萌发，空气干洗塔有高有机废气浓度含硅污废液 。污废液 存在pH冲击大（2-11）、硅硫含量高的特性，传统的解决的方式易有硅垢不通间题。 工业废水营养成分及渠道 工业废水重要因素为： 容解性硅酸盐 ：SiO₂氧化还原电位达1000-1500mg/L 浓盐酸/氢氧化的钠 ：洗條塔强酸强碱洗條液残渣 颗粒肥料硅 ：微米级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：物料溶物带到 处置加工方案 转型升级选取"有级中合+膜过滤清洁+多效蒸发沉淀"工序： 四级与 ：用CaO调节器pH至4-5，生产硅酸钙石雕文化沉淀，硅快速清理率60%。 二次元采和 ：加Na₂CO₃将pH升高至9，进十步沉定其他硅，电容串联用镁剂除砷。 反渗透装置系统化 ：0.02μm瓷质膜滤过纳米级级硅颗粒状，通量平衡在80LMH。 MVR减压蒸馏器 ：浓缩液高盐电镀废水，沉淀出Na₂SO₄副产物设备，水使用率超90%。 以后郊果 总硅从1500mg/L降到5mg/L一些 砷分量从0.8mg/L减少为0.01mg/L 设备无积灰运营不超2年 每一年的回收处理硫酸钠钠多晶体约800吨